Semiconductor Solutions

PEGASUS-300

半導体(Semiconductor)

半導体メモリに代表される高集積デバイスに、基板ダメージ無く低温でナノ制御のデポジションを可能とするICP-CVD装置。

外部アンテナ構造のICPプラズマは、異常放電、プラズマの不安定などもなく、高い再現性の装置です。

Highly integrated devices represented by semiconductor memory can be nano-controlled at low temperature without substrate low damage.ICP-CVD equipment that enables deposition

ICP plasma with external antenna structure is high without abnormal discharge or plasma instability.It is a reproducible device.

300mmウェハ対応、低温成膜

High density plasma CVD

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