Process – 水蒸気バリア膜

水蒸气バリア膜

光学特性

測定波長 : 633 nm

膜 種屈折率消衰係数
SiN2.00.0001
SiON1.7580.0000
SiO21.450.0000

ガスバリア特性

測定方法:Mocon法(40℃×90%)

膜 種膜 厚水蒸気透過率(g/m²/d)
SiN100nm(1000nm)10-3 g以下(10-5 g以下)
SiON100nm(1000nm)10-3 g以下(10-5 g以下)
SiO2100nm(1000nm)10-1 g以下(10-2 g以下)

応力&成膜、エッチングレート

膜 種屈折率Stress成膜レートエッチング(BHF:5%)
SiN〜2.1〜-500MPa〜50nm/min6nm/min
SiON1.6〜1.80〜-200MPa〜300nm/min30nm/min
SiO21.46〜〜-100MPa〜300nm/min30nm/min