HDP-CVD（High-density Plasma CVD）

【用途】 ・半導体 ・ディスプレイ ・太陽電池 ・センサー ・電子部品

Item Contents Plasma Source ICP（12.56MHz) Stage RF Bias（13.56MHz）、Heater Gas SiH4、O2、N2、NH3、CH4、Ar、NF3 Wafer size ～ φ300mｍ Film deposition rate ～ 300nm/min